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英特尔斥资1.78亿美元 在印度打造研发设施

2017年06月14日 22:00 PDF版 分享转发

英国《金融时报》报导,美国电脑晶片大厂将在投资1.78亿,建立新的晶片设计及验证设施;根据英特尔网站上公布的资讯,新设施将坐落於印度邦加罗尔市(Bangalore),占地62万平方英尺。

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英特尔指出,新设施将采用物联网技术及可再生能源打造,这座「智慧绿能建筑」,对於英特尔在印度发展研发部门有很大的助益;目前英特尔在印度的设计中心,已经是该公司在美国以外最大规模的设计中心。

英特尔自1999年起,开始陆续在印度投资了45亿美元。英特尔印度公司总经理Nivruti Rai表示,乐见英特尔扩大在印度扩大研发的基础建设,将继续进行创新和设计的工作。

来源:自由时报

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