美國國會多個關鍵委員會主席周二(2月10日）敦促國務院與商務部進一步收緊對華出口管制，限制中國獲取先進晶元製造設備，並警告現行制度中的漏洞威脅美國國家安全。

（來源：法廣RFI 作者： 安娜 ，文章內容並不代表本網立場和觀點。）

路透社報道，在一封跨黨派聯名信中，眾議院「美國與中國共戰略競爭特別委員會」主席約翰·穆勒納爾（John Moolenaar）與眾議院外交事務委員會主席布賴恩·馬斯特（Brian Mast）呼籲，對半導體製造設備實施全面性的「國別限制」，理由是中國正在加速進口對先進晶元生產至關重要的外國設備。

在這封致國務卿魯比奧與商務部長盧特尼克的聯名信中，議員們敦促政府向盟友施壓，對關鍵「瓶頸型」半導體製造設備及其子組件實施國別管制，即凡中國無法自主生產的設備與零部件均應納入限制範圍。

維修服務亦成管制焦點

聯名議員還包括眾議院外交事務委員會民主黨籍首席議員格雷戈里·米克斯（Gregory Meeks）以及多名南亞與中亞小組委員會成員。他們呼籲，應限制對已在中國芯片工廠運行設備的維修與技術服務，認為此類維護對於保持設備正常運轉至關重要。

議員們同時要求美國總統特朗普政府在一個月內提交簡報，說明如何爭取盟友合作，推動針對關鍵半導體製造設備及零部件的廣泛國別管制戰略。

技術突破背景下的政策升級

路透社指出，在美國長期試圖遏制的關鍵技術領域，中國近期已顯現突破跡象，而國會的警告正是在這一背景下發出。

不過，業內人士指出，中國仍面臨重大技術挑戰，尤其是在複製西方供應商生產的高精度光學系統方面。

去年12月，路透社披露，中國科學家在深圳一處高度保密實驗室研發出一台以荷蘭企業阿斯麥（ASML）極紫外（EUV）光刻設備為原型的樣機。EUV光刻機是生產最先進晶元的關鍵設備，被廣泛應用於人工智慧處理器、智能手機晶元以及西方軍用電子系統。

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目前尚不清楚該原型機距離商業化應用還有多遠，但相關進展已引發美國政界對出口管製成效的重新評估。