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来源：科技日报

北京时间11月29日，中国科研机构宣布“超分辨光刻装备研制”项目通过验收，成为全球首台用紫外光源实现的22纳米分辨率的光刻机。

中国在芯片领域遭遇西方掣肘

据报道，中科院光电技术研究所项目副总师胡松透露，新验收的光刻机，使用了365纳米紫外光的汞灯，一只费用仅为数万元（1元人民币约合0.1438美元），而光刻机整机价格在百万元至千万元级。

中国科研机构研制新型光刻机

胡松还说，中科院光电技术研究所研制的光刻机加工能力介于深紫外级和极紫外级之间，“让很多用户大喜过望”。

光刻机是集成电路制造业的核心角色。目前，使用深紫外光源的光刻机是主流，成像分辨力极限为34纳米，分辨率进一步提高要用多重曝光等技术，很昂贵。

光刻机巨头荷兰ASML公司垄断了尖端集成电路光刻机，加工极限为7纳米。ASML的EUV光刻机使用的13.5纳米的极紫外光源，价格高达3,000万元，还要在真空下使用。

而中科院光电技术研究所的光刻机分辨率为22纳米，擅长加工一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片和超表面成像器件。

报道称，中科院光电技术研究所目前已掌握超分辨光刻镜头、精密间隙检测、纳米级定位精度工件台、高深宽比刻蚀和多重图形配套光刻工艺等核心专利，“技术完全自主可控，在超分辨成像光刻领域国际领先”。

虽然中国科研机构研发出新型光刻机，但荷兰ASML公司研制的光刻机仍是中国客户的首选。今年的5月底，据荷兰媒体报道，中国芯片巨头“长江存储”从ASML订购的价值7,200万美元的光刻机运抵湖北武汉。

另日本媒体报道，中国另一家芯片制造企业中芯国际也向ASML公司订购一台价值1.2亿美元的光刻机，预计将在2019年交货。

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继中兴通讯、福建晋华后，据报道，美国考虑制裁中国监控设备巨头海康威视，切断芯片供应。而这会促使中国加快应用国产装备的步伐。
_(网文转载)