省电90% 日本开发1.4纳米芯片先进制程
2025年12月11日 13:32 PDF版
日媒报道,大日本印刷株式会社(DNP)已经开发出新技术,能节省半导体先进制程用电达90%。
大日本印刷预定2027年量产相关的电路模版材料,提供佳能(Canon)的奈米压印微影(NIL)芯片制造设备使用,以生产1.4纳米制程芯片。
日经说,韩国三星电子和台湾台积电和规划在2027年和2028年开始量产新世代1.4纳米芯片,两家芯片厂均对纳米压印微影设备有兴趣,但是他们的工厂设计是光学微影设备,要转换有很高门槛。
目前最先进制程芯片的制造设备,只有荷兰艾司摩尔(ASML)一家,供应极紫外光(EUV)微影设备。
今年9月台北“2025台湾半导体展”上展示的晶圆。(欧新社)
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来源:世界新闻网
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