俄罗斯自研350纳米光刻机

据俄国家工业信息系统最新目录显示，由泽列诺格勒纳米技术中心自主研发的新型光刻系统已正式纳入国家工业设备名录。这台型号为RAVC.442174.002TU的设备，标志着俄罗斯在构建独立半导体制造生态系统、打破西方技术封锁上，迈出了从实验室研发到工业化部署的实质性一步。此次入列的光刻系统是一款对准和投影曝光装置，其核心指标为 0.35微米分辨率。该设备采用365纳米波长的i线紫外光源，可处理直径达200毫米的标准晶圆，对准精度控制在90纳米左右。这些参数表明，该系统完全具备量产工业级芯片的能力，能够广泛应用于电源管理、汽车电子、航空航天控制及各类嵌入式系统。

—— 爱集微

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转自: 风向旗快讯